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Veeco 全自动原子层沉积(ALD)系统
产品型号:Veeco Savabbag /Fuji / Phoenix G2
产品特色
Veeco Savannah G2 ALD
• 实时椭偏仪 • 实时QCM
• 自组装单层膜 • 2秒循环
• 可选臭氧发生器 • LVPD低蒸气压沉积
• 批量镀膜 • 可集成手套箱
• 可升级至Plasma ALD
Veeco Fiji G2 Plasma ALD
• 衬底面积:可达200mm
• 衬底加热至500℃,100mm衬底可选择升级至800℃
• 专用气室涡轮泵送系统
• 一流的等离子设计
• 简单易用的接口
• 实时椭偏仪
• 实时QCM
• 可选臭氧发生器
• 手套箱界面
Veeco Firebird Batch Thermal ALD system
• 最高生产效率,最低成本的HVM ALD系统
• 应用于氧化物薄膜,包含封装层、光学涂层
• 最佳生产能力(每月最多40000片)
• Veeco认证的高级自动化
• 针对脆弱/温度敏感的衬底解决方案,包括LNO/LTO/玻璃模块化热管理
• 实现最佳工艺灵活性和产量
• Veeco全球销售、服务和支持
Veeco Phoenix G2 ALD System
• 衬底面积可达370*470mm
• 衬底加热温度可达 285℃
• 简单易用的接口
• 预加载配方,用于各种薄膜,包括奈米层压板
• 大型反应腔
• 内置安全功能
• 可集成大容量臭氧发生器、低蒸气压传送器、手套箱、自动/半自动装载装
产品规格
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