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Veeco 全自動原子層沉積(ALD)系統
產品型號:Veeco Savabbag /Fuji / Phoenix G2
產品特色
Veeco Savannah G2 ALD
‧ 即時橢偏儀 ‧ 即時QCM
‧ 自組裝單層膜 ‧ 2秒循環
‧ 可選臭氧發生器 ‧ LVPD低蒸氣壓沉積
‧ 批量鍍膜 ‧ 可集成手套箱
‧ 可升級至Plasma ALD
Veeco Fiji G2 Plasma ALD
‧ 襯底面積:可達200mm
‧ 襯底加熱至500℃,100mm襯底可選擇升級至800℃
‧ 專用氣室渦輪泵送系統
‧ 一流的等離子設計
‧ 簡單易用的介面
‧ 即時橢偏儀
‧ 即時QCM
‧ 可選臭氧發生器
‧ 手套箱接口
Veeco Firebird Batch Thermal ALD system
‧ 最高生產效率,最低成本的HVM ALD系統
‧ 應用於氧化物薄膜,包含封裝層、光學塗層
‧ 最佳生產能力(每月最多40000片)
‧ Veeco認証的高級自動化
‧ 針對脆弱/溫度敏感的襯底解決方案,包括LNO/LTO/玻璃模塊化熱管理
‧ 實現最佳工藝靈活性和產量
‧ Veeco全球銷售、服務和支持
Veeco Phoenix G2 ALD System
‧ 襯底面積可達370*470mm
‧ 襯底加熱溫度可達 285℃
‧ 簡單易用的界面
‧ 預加載配方,用於各種薄膜,包括奈米層壓板
‧ 大型反應腔
‧ 內置安全功能
‧ 可集成大容量臭氧發生器、低蒸氣壓傳送器、手套箱、自動/半自動裝載裝
產品規格
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