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桃園市楊梅區和平路188號
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傳真:+886-3-4856336
捲對捲自動對位平行光曝光機
產品型號:GEA
產品特色
高精度之對位系統
高解析之光學系統
極細膩之張力系統
產品規格
以下僅供參考,詳細規格歡迎隨時來電洽詢,本公司擁有堅強設計研發團隊,可另行配合客戶製程需求規劃設計。
1.概要
本機為觸控面板製程中,進行上方單面平行光對位曝光之裝置。
基材料放捲,經由黏塵清潔後,於曝光室內上底片與基材ITO Film自動對位後,將上底片圖型,曝光於基材上,再帶料收捲之一貫自動線。
可選擇對位模式與不對位模式作業。
對位模式時, ITO Film有對位記號,進行上底片與基材ITO Film之標靶自動對位。
不對位模式時, ITO Film無對位記號時,不對位直接帶料曝光。
底片或玻璃光罩為由客戶提供。
2.工作物---ITO FILM基材
3.基本規格
3.1 放捲清潔
(1). 基材放料: 氣脹軸, 含檢知Sensor
(2). 靜電消除棒: 於黏塵後
(3). 循邊控制: EPC檢知控制器及驅動
(4). 接帶台: 基材接帶台,夾制式
(5). 速度: 速度變頻器可調
(6). 清潔: 上下黏塵滾輪清潔
3.2 底片光罩---玻璃光罩或菲林底片,可共用,由客戶製作提供
3.4 曝光方式
(1) 型式: 平行光曝光
(2) 控制: 可選擇能量曝光或時間曝光模式,能量感知積算器,檢知主波長 365 nm
(3) 方式: 真空曝光模式
3.5 光學系統
(1) 燈管: 5KW短弧平行光燈管
(2) 曝光有效區域 Max500mmx 410mm
3.7 對位整合
(1) 鏡頭: 採用同軸光源, CCD
(2) 螢幕 顯示畫面有
3.8 曝光室
(1) 潔淨: 曝光室採用高效率HEPA Filter過濾
(2) 靜電消除: 曝光室採用離子風消除靜電
(3) 溫度 曝光室有冷凍機冷風冷卻,可設定冷卻溫度
3.9 帶料收捲
(1). 基材帶料: 帶料距離可設定
(2). 基材收料: 氣脹軸含檢知Sensor
(3). 靜電消除棒: 於收捲前
(4). 循邊控制: EPC檢知控制器及驅動
(5) 速度: 速度變頻器可調
4.控制介面
(1) PLC: 採用可程式控制器
(2) 人機介面: 採用人機介面,包括各動作自動及手動功能,
曝光能量配方參數設定,燈管使用計時管理,異常履歷管理,I/O訊號監視畫面,故障排除導引
5.外觀---如圖面
6. 安全管理
(1) 反相保護 各馬達加裝反相保護,獨立熔絲開關及各項電路過電流.過載保護。
(2) 開門保護 曝光室各維修門蓋加裝開門簡檢知,INTERLOCK保護
(3) 異常警報 異常發生時,三色燈警式及蜂鳴器警報,方便操作人員排除異常。
(4) 緊急停止 裝設緊急停止開關
(5) 超溫保護 除溫控器內藏之上限超溫防止迴路外,另設有獨立之超溫防止器作最安全溫度防護器,超溫溫度異常時,響警報通知外,自動切斷電源系統,防止意外發生。
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