影像檢查平行光曝光機
產品型號:E2100-5KMC
產品特色
-適用於內層乾膜製程
-高產速每班1200~1500pnls(12小時)
-高解析度 62.5/62.5μm
-平行光5KW單燈光源
-伺服傳動雙框架
-曝光室自潔淨系統
-上/下底片對位精度3σ≦12.5μm
-溫/溼度控制系統
精選產品
產品型號:E2100-5KMC
-適用於內層乾膜製程
-高產速每班1200~1500pnls(12小時)
-高解析度 62.5/62.5μm
-平行光5KW單燈光源
-伺服傳動雙框架
-曝光室自潔淨系統
-上/下底片對位精度3σ≦12.5μm
-溫/溼度控制系統